[1]杜旭日,郭亨群.等离子辅助镀光学薄膜的研究[J].华侨大学学报(自然科学版),2001,22(1):31-34.[doi:10.3969/j.issn.1000-5013.2001.01.007]
　Du Xuri,Guo Hengqun.A Study on Optical Film Prepared by Plasma-Aided Plating[J].Journal of Huaqiao University(Natural Science),2001,22(1):31-34.[doi:10.3969/j.issn.1000-5013.2001.01.007]
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等离子辅助镀光学薄膜的研究()
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《华侨大学学报（自然科学版）》[ISSN:1000-5013/CN:35-1079/N]

卷:
第22卷
期数:
2001年第1期
页码:
31-34
栏目:
出版日期:
2001-01-20

文章信息/Info

Title:
A Study on Optical Film Prepared by Plasma-Aided Plating
文章编号:
1000-5013(2001)01-0031-04
作者:
杜旭日; 郭亨群
华侨大学信息科学与工程学院, 泉州362011
Author(s):
Du Xuri;  Guo Hengqun
College of Info. Sci. & Eng., Huaqiao Univ., 362011, Quanzhou
关键词:
等离子辅助镀;  光学薄膜;  等离子体源
Keywords:
plasma aided plating;  optical film;  plasma source
分类号:
TQ153
DOI:
10.3969/j.issn.1000-5013.2001.01.007
摘要:
研究用等离子辅助镀技术,制备 3种氧化物光学薄膜 .透射光谱实验表明,该薄膜透明度好,吸收损耗小,具有优良的光学特性 .经表面形貌探讨,说明等离子辅助镀技术可得到较为致密平整的薄膜 .而新型等离子体源,能有效地改善光学薄膜的特性,具有实际应用的价值
Abstract:
A study is made on the optical films of three oxides prepared by the technique of plasma aided plating. The film is good in transparency, small in absorption loss and excellent in optical character, as shown by experiment of transmission spectrum. A fairly compact and even film can be obtained by this technique, as shown by study of surface state. This new type plasma source is able to improve characteristic of optical film effectively. It has the value of practical application.

参考文献/References:

[1] 周鹏飞, 高 扬, 陈桂莲. 离子辅助镀膜技术及其应用 [J]. 激光与红外, 1991(5):1-5.
[2] 王建成, 韩丽瑛, 高健存. 反应离子镀光学薄膜的微观结构分析 [J]. 光学学报, 1993, (10):956-959.
[3] ZollerA. Large area IAD with a new plasma source [J]. SPIE, 1990.204-210.doi:10.1117/12.20377.
[4] 苏星, 李正芬, 赵云生. 用等离子体离子辅助沉积高性能红外增透膜 [J]. 红外技术, 1996(6):4-7.

备注/Memo

备注/Memo:
福建省自然科学基金资助项目
更新日期/Last Update: 2014-03-23