[1]李曼安.Nd(Ⅲ)对Ni-Fe合金电沉积及镀层结构影响的研究[J].华侨大学学报(自然科学版),1998,19(4):362-366.[doi:10.11830/ISSN.1000-5013.1998.04.0362]
点击复制
Nd(Ⅲ)对Ni-Fe合金电沉积及镀层结构影响的研究(
)
《华侨大学学报（自然科学版）》[ISSN:1000-5013/CN:35-1079/N]
- 卷:
-
第19卷
- 期数:
-
1998年第4期
- 页码:
-
362-366
- 栏目:
-
- 出版日期:
-
1998-10-20
文章信息/Info
- 作者:
-
李曼安
-
华侨大学应用化学系
- 关键词:
-
Nd(Ⅲ); Ni-Fe共沉积; 纳米级微晶镀层
- 分类号:
-
TQ153.2
- DOI:
-
10.11830/ISSN.1000-5013.1998.04.0362
- 摘要:
-
应用合金电沉积分极化曲线的测量,以及X-射线衍射法研究了Nd(Ⅲ)对Ni-Fe合金共沉积过程的影响.实验结果表明:Nd(Ⅲ)对Ni(Ⅱ)的沉积起阻化作用,而对Fe(Ⅱ)的沉积起催化作用,因而加剧了Ni-Fe合金共沉积的异常行为.此外,Nd(Ⅲ)既是镀层晶粒的细化剂,也是应力的消除剂,控制Nd(Ⅲ)的添加量可获得纳米级微晶镀层
更新日期/Last Update:
2014-03-22